中金:Micro OLED成本有望持續下降,成爲VR顯示主流方案
Micro OLED,又稱硅基OLED或OLEDoS,是將傳統OLED的玻璃基板替換爲單晶硅基板,並採用有機發光技術。與傳統OLED外置驅動不同,硅基OLED將單晶硅通過CMOS工藝加工成驅動背板,可以將單個像素點尺寸縮小至原來的1/10左右,以實現更高精度的顯示效果。我們認爲隨着ARVR終端顯示方案升級,硅基OLED有望成爲未來虛實交互的顯示窗口。
展望未來,在VR領域,我們看好蘋果Vision Pro推動高端頭顯產品有望陸續搭載硅基OLED,以實現更加沉浸及真實的交互顯示效果;在AR領域,我們認爲硅基OLED搭配Birdbath設計已成爲消費級AR眼鏡的主流方案,隨着消費級AR產品出貨量增長,我們看好硅基OLED需求有望持續增長。
摘要
蘋果Vision Pro搭載雙眼8K硅基OLED,突破屏幕限制優化用戶體驗。2023年6月,蘋果在WWDC23發布全新Vision Pro頭顯,產品搭載硅基OLED屏幕,可實現雙眼8K分辨率。根據我們測算,Vision Pro的PPD(每角度像素點)約爲35-40,大幅領先同類競品(15-20 PPD),更加接近人眼(60 PPD)。我們認爲,借助硅基OLED高分辨率特點,Vision Pro可以提供更加真實的顯示效果,突破目前LCD和OLED分辨率瓶頸,改善用戶體驗。展望未來,我們認爲硅基OLED或將成爲中高端VR標配屏幕,通過更加真實的顯示效果,給用戶帶來深度沉浸式體驗,並提升用戶粘性。
產线尺寸決定最終成本,良率提升推動成本邊際下降。由於基板材質爲單晶硅,硅基OLED的生產成本與晶圓尺寸高度相關。由於AR眼鏡所用硅基OLED尺寸在0.3-0.4英寸,4-8寸晶圓均能實現相近成本生產。但VR屏幕尺寸在1英寸以上,根據我們測算,12寸晶圓成本將明顯低於8寸及以下晶圓產线。因此,我們認爲未來在VR屏幕領域12寸晶圓產线有望成爲主流方案。此外,在生產端,良率的提升也對成本下降有較爲明顯的推動。目前VR尺寸的硅基OLED良率仍顯著低於AR尺寸產品,我們看好未來技術成熟推動VR尺寸硅基OLED良率提升,以及大廠新增產能投入,有望推動硅基OLED成本持續下降,成爲VR顯示主流方案。
風險
Micro OLED技術發展及產品落地不及預期;下遊終端出貨不及預期。
Micro OLED:顯示領域創新方案之一
Micro OLED結構與工藝流程
Micro OLED又稱硅基OLED、OLEDoS(OLED on Silicon),屬於有機發光二極管顯示技術的一種。Micro OLED以單晶硅片爲襯底,相比傳統OLED所使用的玻璃基板,單晶硅背板具有更高的載流子遷移率,因此Micro OLED可以制備更小的像素尺寸(通常在6~15微米,約爲傳統顯示器件的1/10),實現顯示像素微小化、精細化。
我們認爲Micro OLED是無機半導體材料與有機OLED材料結合,生產流程是將OLED發光模塊沉積至單晶硅襯底構成完整顯示模組。其器件結構由驅動背板和OLED前端兩部分組成:
► 驅動背板:Micro OLED不同於傳統OLED的外置驅動芯片,通過CMOS工藝將驅動芯片包含的不同功能模塊(包括時序控制模塊、行列驅動電路、電源管理模塊等)和TFT像素陣列電路集成至單晶硅芯片上,減少器件外部連接线,實現輕量化及精細化顯示。
► OLED前端:OLED發光模塊主要包含像素陽極層、有機發光層、陰極層、彩色濾光層;陽極層和陰極層構成完整回路用於通電;有機發光層包含空穴注入/傳輸層、發光層、電子傳輸/注入層,在外電場作用下,空穴和電子相向運動形成激子,激子經過弛豫、擴散等過程發出光;彩色濾光層用於將白光過濾成三原色,並最終調配出任意顏色。
圖表1:Micro OLED模擬驅動芯片架構
資料來源:《高亮度硅基OLED微顯示器研究》,楊建兵,2016,中金公司研究部
圖表2:Micro OLED器件結構
資料來源:《超還原硅基有機發光微顯示器研究》,季淵,2012,中金公司研究部
Micro OLED器件的制作流程主要分爲五個部分:(1)硅基背板制造:IC設計廠商負責設計芯片,面板廠商負責設計像素電路,最後一並交於晶圓代工廠進行集成制造;(2)有機發光器件制作:首先將金屬陽極層制備於基板上,接着依次完成空穴注入/傳輸層、發光層、電子傳輸/注入層的蒸鍍過程,最後制作透明陰電極;(3)薄膜封裝:利用PECVD或者ALD工藝在發光模塊上制備致密薄膜,避免其與空氣中的水氧接觸而變質;(4)彩色化與封裝:通過塗膠、曝光、顯影等步驟制作Micro OLED需要的R、G、B三原色圖形,並與玻璃蓋貼合完成封裝;(5)模組工藝:將完成上述流程的器件切片、測試並與顯示系統綁定形成模組。
圖表3:Micro OLED器件制作流程
注:Micro OLED與傳統AMOLED制作過程的差異主要體現在有虛线框的步驟 資料來源:MicroDisplay,《超還原硅基有機發光微顯示器研究》,季淵,2012,中金公司研究部
Micro OLED VS 傳統AMOLED
OLED驅動方式可分爲被動矩陣驅動(PM)和主動矩陣驅動(AM),相比於被動驅動,主動驅動方式通過TFT電路精確控制每個像素的發光強度,可以產生更高的顯示分辨率和更高的灰度等級。Micro OLED屬於主動矩陣驅動OLED的一種,但與傳統AMOLED在部分制作工藝上有所不同,帶來了一定的制造壁壘。
背板及像素電路
傳統AMOLED的基板一般採用玻璃材質,在上面刻畫TFT像素電路,由面板廠商自行設計生產;Micro OLED的基板採用單晶硅,在上面刻畫像素電路和驅動IC所含功能模塊,由面板廠商、芯片設計廠商分別設計像素電路和驅動功能電路,並交由芯片制造廠商完成最終制造,由於背板集成度更高,整體工藝難度較大,开發效率較低。
發光及彩色化方案
傳統AMOLED普遍採用RGB三色獨立發光方案。此種方案利用精密金屬掩模板(FMM)和CCD像素對位技術,將紅、綠、藍三種不同顏色的發光材料依次蒸鍍於玻璃背板上,獨立調節每個單色子像素的發光強度,三色混合後便可發出彩色光。經典的子像素排列方案爲並列,後衍生出各類排列如PenTile排列、鑽石排列、Delta排列等。
FMM的开孔決定子像素,开孔間距直接決定了子像素的間距和密度,WOLED是目前硅基OLED主流。若要實現Micro OLED的RGB發光方案,需要極高尺寸精度的FMM和具備超精確定位的蒸鍍機作爲基礎。對比可實現RGB材料直接蒸鍍的傳統AMOLED FMM規格和Micro OLED FMM設計規格,可以發現從多個指標來看,兩者差距均接近一個數量級,表明AMOLED通用的FMM無法滿足Micro OLED的技術要求。目前市面上可適用RGB的Micro OLED FMM和蒸鍍設備較少,因此其主流發光方案暫爲WOLED+CF(白光+彩色濾光片)。
Micro OLED的彩色濾光片將白光過濾成RGB三色光,並通過改變不同光的透射強度即可混合成彩色光。制備濾光片時,需先在玻璃上制備黑色矩陣,用於隔離三原色、避免產生雜色光;RGB三基色材料按一定圖案排列,並與背板上的子像素電路位置一一對應,廠商需具備高精度制造工藝和對位能力,典型的子像素排列方式有並列式、馬賽克式、三角形式等。
由於彩色濾光片會降低光的透過率,亮度成爲WOLED的主要缺陷,各大面板廠商亦在探索其他路徑的Micro OLED發光方案。當前已有部分廠商成功實現突破:eMagin提出直接圖案化技術,不需要FMM便可直接在硅基背板上單獨圖案化RGB三基色材料,擺脫彩色濾光片實現獨立發光;Hunet Plus通過與Sunic System聯合研究,开發出可用於Micro OLED的超高清掩模板(UHM),可實現2000ppi至8000ppi的超高分辨率,Sunic System也相應开發出可實現超精確對准的RGB Micro OLED蒸鍍機。
圖表4:RGB子像素蒸鍍過程及排列方式
資料來源:DNP官網,PAOKA,中金公司研究部
圖表5:AMOLED FMM規格和Micro OLED FMM設計規格
資料來源:《硅基有機電致發光微顯示關鍵技術研究》,徐洪光,2013,中金公司研究部
圖表6:典型串聯疊層白光結構
資料來源:《硅基微顯示器發展現狀與研究進展》,季淵,2022,中金公司研究部
圖表7:彩色濾光片結構及RGB三基色排列方式
資料來源:新材料在线,PAOKA,中金公司研究部
圖表8:eMagin直接圖案化技術及顯示效果
資料來源:eMagin官網,中金公司研究部
封裝及模組工藝
Micro OLED通常採用薄膜封裝結構:完成發光模塊蒸鍍後,在OLED器件上沉積多層有機及無機薄膜,達到封裝效果。有機膜層分子無法整齊排列,阻隔效果較差,無機膜層分子雖阻隔效果較好,但由於膨脹或收縮會自行剝離,故無機膜層和OLED器件之間需存在有機膜層作爲緩衝層。完成薄膜封裝後的器件將與彩色濾光片通過UV固化膠貼合,彩色濾光片的玻璃基板可起到蓋板作用,形成封閉空間,從而最終完成封裝工藝。
傳統AMOLED器件在完成封裝後,需先經過切片、清洗、幹燥等基礎流程,接着進行面板點亮測試,測試通過後依次與ACF導電膠膜、驅動IC、FPC進行貼合綁定,隨後進行模組老化與點亮測試,通過後與外引线和驅動板裝配,最終包裝入庫。Micro OLED器件由於不需要外接驅動芯片,在基礎流程完成後直接與PCB電路板貼合、塗保護膠烘烤成品,接着進行模組老化和光電性能檢測,最終篩選出合格商品、包裝入庫。
圖表9:固化膠封裝結構、Glass Frit封裝結構和薄膜封裝結構
資料來源:《硅基有機電致發光微顯示關鍵技術研究》,徐洪光,2013,中金公司研究部
面板檢測工藝
面板生產包含陣列(Array)→成盒(Cell)→模組(Module)三大制程,而檢測工藝貫穿生產全過程,對面板的光學、信號、電性能等各種功能進行檢測,從而保證各段生產制程的可靠性和穩定性,提升良品率。對於傳統OLED器件,主要檢測項目包括Array制程光學、電性能檢測和Cell/Module制程光學、平整度、老化、觸控檢測。
對於Micro OLED等新型顯示器件,由於其具有更高的解析度、刷新率、信號傳輸速度,檢測設備需具有更高的技術性能、集成度和檢測效率;且由於其採用硅基工藝,檢測設備商逐漸向顯示晶圓及芯片段等中後道檢測領域拓展。
圖表10:傳統OLED制程及檢測項目
資料來源:華興源創招股說明書,華興源創2023年半年報,中金公司研究部
圖表11:華興源創Micro OLED核心技術
資料來源:華興源創2023年半年報,中金公司研究部
Micro OLED產業鏈
Micro OLED產業鏈包括上遊的原材料廠商、制造設備廠商、檢測設備廠商、芯片設計廠商、芯片制造廠商等,中遊的面板制造廠商,以及下遊包括AR/VR、工業安防、醫療等各個領域的組裝廠、整機廠和解決方案提供商。
► 硅基背板:Micro OLED背板芯片由面板廠商、芯片設計商、芯片制造商協同开發完成;芯片設計領域,部分公司具備完整芯片設計和顯示器研發生產能力;背板制造主要由晶圓代工廠負責。
► 原材料:Micro OLED所需的上遊原材料包括硅基片、陽極金屬材料(銅、鋁等)、有機發光材料(發光層材料、載流子輸送材料等)、封裝材料(有機材料、無機材料)、光刻顯影材料(光刻膠、顯影液、剝離液等)、彩色濾光層材料(感光膠、黑矩陣材料等);對於其中有機發光材料較爲關鍵,受制於精細化工技術差距,全球主要競爭企業爲日韓、歐美等國外廠商。
► 制造設備:Micro OLED制造過程中涉及的主要設備包括蒸鍍設備、光刻設備、顯影/刻蝕設備、薄膜沉積設備等;對於蒸鍍設備環節,全球市場呈現寡頭壟斷格局,主要參與者爲日本Canon Tokki,韓國Sunic System則因近期研制出可實現RGB獨立發光的Micro OLED蒸鍍設備而受到關注,國內亦有部分企業實現了高精度蒸鍍機國產化。
► 檢測設備:Micro OLED檢測設備主要用於在生產過程中,對器件進行顯示、觸控、光學、信號、電性能等各種功能檢測,提升整體良率。
► 面板制造:全球範圍內,歐美、日韓公司較早進入市場,積累了一定的先發優勢,主要爲美國eMagin、日本Sony、法國Microoled、德國Fraunhofer、韓國LG Display等;伴隨擴展現實行業景氣度提升,Micro OLED技術逐漸受到市場關注,國內企業亦布局消費級Micro OLED面板技術。
► 終端應用:Micro OLED產品可應用於頭盔顯示器、立體顯示鏡、眼鏡式顯示器等近眼顯示和投影顯示系統,具體產品包括AR眼鏡、VR/MR頭戴式顯示設備、電子取景器、汽車擡頭顯示、工業測溫設備、高端醫療器械、夜視儀等;當前市場對於Micro OLED的關注集中於AR/VR領域。
整體而言,當前Micro OLED器件制造良率較低,主要原因在於:1)制造流程復雜,且由於像素尺寸小導致工藝精度要求高;
2)有機發光材料遇到水或氧氣容易發生反應導致失效,因此需要保持真空制造環境,且需保證封裝工藝和彩色濾光片的貼合質量;3
)硅基背板需要面板廠商、芯片廠商協同設計,且需要在小尺寸晶圓上集成多個電路,對晶圓廠的加工能力提出了極高的要求,導致背板整體开發制造效率較低。
伴隨其技術成熟度逐漸提高及國內外廠商產能釋放,我們看好Micro OLED產業化趨勢,有望成爲XR主流顯示方案。
圖表12:Micro OLED產業鏈
資料來源:Wind,iFinD,彭博資訊,中金公司研究部
Micro OLED未來有望成爲ARVR顯示主流方案
Micro OLED可實現單個像素調教且面積較小
顯示技術主要包括LCD、LED、OLED三大類。LCD由於成本較低且技術成熟,在中大尺寸面板顯示領域佔據主要份額。LED具有自發光特性,且色彩顯示效果佳,但由於其小型化(即Micro LED)及巨量轉移仍未成熟,目前主要用於照明、背光及超大屏顯示領域。OLED因其輕薄性、對比度高、響應速度快、功耗較低等優勢,已逐步成爲小型及微型顯示方案的主流。
OLED按照驅動方式可分爲主動式驅動(AMOLED)和被動式驅動(PMOLED)。AMOLED顯示品質佳、反應速度快,目前主要應用於中大尺寸顯示屏。PMEOLED亮度較高、生產成本較低,目前以中小尺寸顯示屏爲主。Micro OLED屬於AMOLED的技術拓展,將背板材料換成硅晶圓且無需外接驅動IC,節約了內部空間,具有分辨率高、體積小等特點。
圖表13:OLED驅動方式分類
資料來源:清越科技招股說明書,中金公司研究部
Micro OLED可對單個像素實行精確控制,模組響應速度較快,可有效減少顯示場景快速變化時的色彩殘留現象。而由於發光模組沉積於硅晶圓之上,Micro OLED器件的底層電路借助成熟的半導體CMOS工藝進行制造,單個像素尺寸可達到個位數的微米級別,在同樣的顯示屏尺寸下可實現更高的分辨率,顯著提升顯示效果。同時由於沒有背光源的存在,Micro OLED器件更輕薄,功耗更低,並且可實現“純黑”的色彩效果,帶來較高的顯示對比度。
圖表14:主流顯示方案對比
資料來源:Ofweek,BOE官網,MicroDisplay,中金公司研究部
Micro OLED有望成爲現階段XR顯示方案主流
AR/VR借助頭戴式顯示設備實現虛擬元素與真實場景的交互。頭部科技廠商已陸續布局此領域並積極推進新品發布,伴隨技術迭代與產品升級,我們認爲更爲輕量化的頭顯設備有望成爲消費電子的下一代終端:索尼憑借其在泛娛樂終端的強大實力有望加速VR向遊戲、娛樂等場景滲透,蘋果、Meta及Pico則將強化VR的辦公屬性。
圖表15:頭部科技廠商VR出貨節奏
資料來源:The Information,Meta官網,Apple官網,Sony官網,MWC 2023官網,中金公司研究部
頭戴式顯示設備是近眼顯示技術主要的應用方向,對於顯示屏幕提出了較高的要求。理想情況下,屏幕像素數量應當爲滿足人眼視覺需求的像素數量。人眼能夠識別的最小視場角爲1/60度,每一度人眼可分辨的像素數量即爲60 PPD;人眼視場角可分爲水平和垂直方向,可實現人體立體視場的水平方向視場角爲120度,垂直方向視場角爲135度;因此,滿足人眼視覺需求的屏幕分辨率爲單眼7200×8100。
像素尺寸及間距過大時,屏幕分辨率不足,會產生“紗窗效應”導致顯示模糊,引發頭暈、惡心等暈動症反應。作爲頭顯設備的核心部件之一,屏幕承載了實現智能終端視覺需求的重要任務,因此升級屏幕顯示精細度成爲當前頭顯設備升級主线。同時屏幕顯示功耗亦是設備制造商主要關注因素,低功耗的顯示屏可減輕發熱情況,延長設備續航時間,提升使用體驗。在此情況下,Micro OLED由於像素密度高、功耗較低等優點,逐漸被頭顯設備商關注。
圖表16:主要VR新品屏幕像素參數
資料來源:AR圈,中金公司研究部
當前VR頭顯設備的主流屏幕選擇爲Fast LCD。傳統LCD的電場反應較慢、刷新率較低,Fast LCD使用全新液晶材料(鐵電液晶材料)與超速驅動技術,可將有效刷新率提升至75-90Hz,同時成本較低、量產良品率穩定,性價比較高。Mini LED技術的搭載進一步增強了Fast LCD的顯示效果,通過將一整塊背光板劃分成數個可單獨控制亮度的背光區域,提升了畫面的對比度和顏色飽和度。
我們預計Micro OLED有望替代Fast LCD。VR初期,由於色彩對比度高、響應速度快等優勢,廠商們主要選用AMOLED爲顯示方案。伴隨行業景氣度提升,衆多廠商入局,在降低成本並盡量保證顯示效果的前提下,Fast LCD成爲大多數廠商的選擇。發展至今,VR設備廠商的追求已逐漸轉變爲提升產品的實際使用效果,而蘋果Vision Pro對於Micro OLED的搭載引起了行業對於此種顯示方案的高度關注。對比Fast LCD,Micro OLED具備較大的性能優勢:
► 高分辨率:根據CSDN數據,近眼顯示設備削弱紗窗效應需要角分辨率在30 PPD以上,結合視場角在100-120度,像素密度達到需要3,000-4,000 PPI;Micro OLED像素密度可實現3000 PPI,較Fast LCD(1,000-2,000 PPI)有大幅增長,我們認爲可顯著提升設備的角分辨率,從而有效增強VR設備的顯示效果。
► 高刷新率:根據VR陀螺數據,減弱眩暈感需要VR設備刷新率提高至150-240Hz及以上;根據VR compare數據,Fast LCD的反應速度爲毫秒至納秒級,刷新率在90-100Hz左右,Micro OLED刷新率可達到120Hz;我們認爲這有望改善運動模糊現象及閃爍現象,從而有效減緩VR設備的使用眩暈感。
► 輕量化、低功耗:Micro OLED在硅芯片基底集上成陣列電路和功能電路,像素尺寸更小,且無需外接驅動芯片,減少了器件的外部連线,重量相比傳統顯示器件明顯減少;據TOPWAY數據顯示,由於Micro OLED爲自發光技術,無需背光源,功耗約爲LCD的30-40%,進一步提升整機續航能力。
Micro OLED已具備初步量產能力,成本爲當前主要制約因素。已有多家行業龍頭廠商宣布入局Micro OLED,部分廠商已成功量產並導入終端客戶,行業整體技術形態逐漸成熟,並伴有一定的技術創新出現。據Yole數據顯示,相比LCD屏幕(單塊價格約爲20-40美元),Micro OLED屏幕價格較高(單片價格在1-200美元)。我們認爲,伴隨Micro OLED量產能力提升,規模效應將帶動屏幕成本下降,有望推動Micro OLED在更多VR設備上搭載。
圖表17:VR顯示技術演進
資料來源:Omdia,MicroDisplay,中金公司研究部
AR光學顯示方案多元化,Micro OLED加速滲透。近期,Xreal、Rokid等品牌均發布最新款AR眼鏡,主打C端消費場景,光學方案均搭載較爲成熟的Birdbath+硅基OLED方案。我們認爲,盡管光波導+Micro LED在體積及功耗等領域均有明顯優勢,但從成本及成熟度來看,Birdbath+硅基OLED方案可以將顯示模組成本壓縮至消費級產品的價格,且顯示效果也能滿足日常基本使用。
圖表18:AR光學成像方案總結一覽
資料來源:VR陀螺,各公司官網,中金公司研究部
圖表19:AR光源方案總結一覽
資料來源:MicroDisplay,MicroLED,VR陀螺,中金公司研究部
硅基OLED有望實現高速增長,VR滲透率提升推動規模擴大。近期,Rokid及Xreal均有新品發布,面向C端消費市場,均搭載硅基OLED屏幕。我們認爲目前硅基OLED主要在AR產品應用。在VR領域,我們看好蘋果Vision Pro有望推動硅基OLED的高端場景滲透持續提升。我們預測硅基OLED市場2026年有望達到25億美元。
圖表20:2021-26年硅基OLED市場高速增長
資料來源:IDC,中金公司研究部
圖表21:VR有望成爲硅基OLED成長動力
資料來源:IDC,中金公司研究部
風險提示
Micro OLED技術發展及產品落地不及預期。硅基OLED技術目前仍處在發展前期,多種生產及封裝技術路徑尚未清晰,生產良率較低,如果良率提升不及預期,或將影響產品生產成本及客戶採購意愿,導致產品最終落地情況不及預期。
下遊終端出貨不及預期。Micro OLED目前下遊主要爲ARVR等消費電子新型終端,市場規模與產品出貨量高度相關,如果ARVR硬件出貨不及預期,或將導致硅基OLED市場規模低於預期,從而影響行業內相關公司發展空間。
注:本文摘自中金公司2023年11月28日已經發布的《ARVR系列#6:Micro OLED虛實交互之窗》
李澄寧 分析員 SAC 執證編號:S0080522050003 SFC CE Ref:BSM544
賈順鶴 分析員 SAC 執證編號:S0080522060002 SFC CE Ref:BTN002
彭虎 分析員 SAC 執證編號:S0080521020001 SFC CE Ref:BRE806
黃天擎 分析員 SAC 執證編號:S0080523060005 SFC CE Ref:BTL932
溫晗靜 分析員 SAC 執證編號:S0080521070003 SFC CE Ref:BSJ666
標題:中金:Micro OLED成本有望持續下降,成爲VR顯示主流方案
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