龍圖光罩闖關科創板,聚焦半導體掩模版,依賴前五大供應商
近日,深圳市龍圖光罩股份有限公司(以下簡稱“龍圖光罩 ”)披露了首次公开發行股票並在科創板上市招股說明書 (申報稿) ,保薦人爲海通證券。
龍圖光罩的主營業務爲半導體掩模版的研發、生產和銷售,是國內稀缺的獨立第三方半導體掩模版廠商。
圖片來源:招股書
截至招股說明書籤署日,公司股權較爲分散,不存在單一持股30%以上的股東,且第一、第二、第三大股東持股比例分別爲26.33%、26.33%、19.56%,均無法單獨對公司實施控制,因此公司無控股股東。 柯漢奇、葉小龍、張道谷爲公司共同實際控制人,且最近兩年內未發生變更。
股權結構圖,圖片來源:招股書
本次IPO擬募集的資金主要用於高端半導體芯片掩模版制造基地項目、高端半導體芯片掩模版研發中心項目、補充流動資金項目。
募資使用情況,圖片來源:招股書
主營業務毛利率逐年上升
報告期內,龍圖光罩的營業收入分別爲5269.26萬元、1.14億元、1.62億元,淨利潤分別爲1447.87萬元、4116.42萬元、6448.21萬元。
基本面情況,圖片來源:招股書
根據基板材料不同,公司掩模版產品分爲石英掩模版和蘇打掩模版,其中,石英掩模版以高純度石英玻璃爲基材,具有高透過率、高平坦度、低膨脹系數等優點,通常用於制程較高、精度要求較高的掩模版,如半導體領域中的功率半導體領域;蘇打掩模版則使用蘇打玻璃作爲基板材料,透過率、平坦度及膨脹性能均弱於石英玻璃,故主要用於中低精度掩模版,如光學器件、半導體領域中的IC封裝等領域。
報告期內,石英掩模版收入規模大幅增長,爲公司主營業務收入增長主要貢獻來源,主要系半導體掩模版領域的產品收入規模大幅增長所致。
公司主營業務收入按產品類別的構成,圖片來源:招股書
報告期內,龍圖光罩的主營業務毛利率分別爲54.45%、59.73%、61.03%,呈現整體上升趨勢。
公司主營業務毛利率與同行業上市公司毛利率比較情況,圖片來源:招股書
報告期內,公司產品的生產成本中直接材料佔比平均爲54.79%,且主要由基板和光學膜構成,上述材料的價格波動對公司產品成本的影響較大。
具體來看,龍圖光罩的主要原材料爲石英基板、蘇打基板和光學膜等。石英基板和光學膜技術難度較大,供應商主要集中於日本、中國台灣等地,公司的原材料存在一定的進口依賴。
報告期內,公司向前五大供應商採購原材料的金額佔原材料總採購金額佔比均超八成。公司主要生產設備,如光刻機主要向境外供應商採購,包括瑞典Mycronic、德國Heidelberg、日本JEOL等。公司主要原材料和光刻機採購依賴於境外且集中度較高。
應收账款淨額佔比較高
半導體掩模版是芯片制造的關鍵工具,對晶圓光刻的質量有重要影響。隨着全球半導體行業快速發展,半導體掩模版的技術指標要求不斷提高,入局者需要繼續保持充足的研發投入,在關鍵技術上持續創新,來滿足下遊客戶需求。
報告期內,龍圖光罩的研發費用分別爲560.48萬元、931.80萬元、1533.31萬元,具體來看,公司緊跟國內半導體制造商參與全球競爭的步伐,展开基礎技術與產品研發,不斷進行技術攻關和迭代,半導體掩模版的工藝能力從1μm工藝節點以上逐步提升至目前的130nm工藝節點,相應研發投入也同步增長。
研發投入情況,圖片來源:招股書
2020年度、2021年度以及2022年度,公司通過外幣結算的採購金額佔原材料採購金額的比例分別爲26.91%、27.34%、37.13%,公司新增光刻機等重要設備亦爲境外採購,公司境外採購的主要結算貨幣爲美元和日元。隨着公司銷售規模及工藝節點提升,新增境外採購設備及進口原材料亦將持續增長,如果未來匯率發生較大波動,或將會在一定程度上影響公司的經營業績。
報告期內,龍圖光罩的應收账款淨額分別爲1734.55萬元、3219.43萬元、5168.88萬元,佔報告期各期末流動資產的比例分別爲64.10%、47.43%、16.28%,佔比相對較高。
公司流動資產主要構成,圖片來源:招股書
此外,半導體掩模版行業的主要生產設備昂貴,對相關企業資本投入要求較高。隨着工藝節點的提升,全流程生產設備均需要升級,資本投入將被迫大幅上升。
報告期內,公司逐步擴充產能,機器設備數量和規格不斷提升,各期末固定資產账面價值分別爲3401.14萬元、7241.76萬元、1.32億元。隨着本次募投項目的實施,公司將進一步提升產品制程能力,引入多台電子束光刻機、幹法刻蝕機、高端AOI檢測設備等,相應固定資產金額也將大幅提升。如果未來市場競爭格局變化、客戶需求減少、新產品市場开拓不及預期等,公司產能利用率下降,上述設備帶來的高額固定資產折舊和經營槓杆將會對公司的經營業績帶來負面衝擊。
結語
整體來說,龍圖光罩需要利用現有的優勢和產品競爭力,擴大國內特色工藝半導體市場掩模版的市場佔有率,同時大力推進高端半導體芯片掩模版項目建設,實現高端半導體掩模版技術突破,不斷提升制程節點。
標題:龍圖光罩闖關科創板,聚焦半導體掩模版,依賴前五大供應商
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