重大“芯”突破！國產DUV光刻機問世，相關概念股集體大漲

今日上午，光刻機板塊集體走高，截止發稿，同飛股份、波長光電20cm漲停，張江高科、海立股份、京華激光漲停，茂萊光學、蘇大維格、富樂德、聯合光電等紛紛大漲。

消息面上，工信部印發《首台(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)》。其中在電子專用裝備目錄下，集成電路生產裝備包括氟化氬GKJ，光源193納米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。

國產DUV光刻機迎突破，量產28nm意義重大

近日，工業和信息化部印發《首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024 年版）》通知。據“工信微報”介紹，重大技術裝備是國之重器，事關綜合國力和國家安全。

值得注意的是，在重大技術裝備文件列表中包含了國產氟化氪光刻機（110nm），和氟化氬(ArF)光刻機（65nm）的內容。

氟化氪（KrF）和氟化氬（ArF）兩種氣體均服務於深紫外（DUV）光刻機，產生深紫外光的准分子激光器。並且氟化氬光刻機和氟化氪光刻機兩者均屬於DUV光刻機。

目前來說，光刻機共經歷了五代的發展，從最早的 436nm 波長，再到第二代光刻機开始使用波長 365nm i-line，第三代則是 248nm 的 KrF 激光，第四代就是 193nm 波長的 ArF 光刻機，屬於幹式DUV光刻機。

根據信息，其中ArF（氟化氬）光刻機，光源爲193納米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。

套刻精度通常被指爲“多重曝光能達到的最高精度”，按套刻精度與量產工藝1:3的關系，這個光刻機大概可以量產28nm工藝的芯片，大致相當於20年前ASML的1460K。

28nm雖然不是特別先進技術，但意義依然重大，因爲這是芯片中低端和中高端的分界线，目前除了最先進的CPU、GPU、AI芯片外，其余的工業級芯片大多都是28nm以上技術。

這也意味着中國工業實現獨立，國內的空調洗衣機汽車等各類工業品，可以突破西方國家設置的重重封鎖，自主生產銷售。

國產光刻機技術持續突破

在此之前，國產光刻機相關公开信息較少，保密程度高，但今年以來，國內光刻設備及曝光工藝公开信息逐漸增多。

3月22日，華爲公开四重曝光工藝技術改進優化的專利；
6月20日，工信部發布《首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）》公示稿（後於9月9日正式發布）；
9月10日，上海微電子公开“極紫外輻射發生裝置及光刻設備”的專利。

驅動光刻機信息公布的因素或有兩個，一是美國大幅提高對中國的芯片關稅，二是荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）進一步收緊先進DUV的出口。

申萬宏源證券認爲，官方披露核心設備進展提振市場信心，國產光刻機相關產業鏈受益，國內晶圓廠擴產自主可控可期，國產半導體設備整體受益。

民生證券表示，海外半導體設備供給持續高增滿足短期擴產需求，國產光刻機技術亦在持續突破，利好半導體設備自主可控的長期發展，繼續看好國內晶圓廠的投資增長和國產半導體設備的國產化機遇。

相關概念股一覽：

波長光電（300847）：公司光刻機平行光源系統可用於國產光刻機領域配套，並已交付多套系統。

蘇大維格（300331）：向微電子提供光刻機用的定位光柵產品。

福晶科技（002222）：全球最大的LBO、BBO非线性光學晶體生產商。

炬光科技（688167）：提供光刻機曝光系統核心元器件光場勻化器。

京華激光（603607）：控股的美國菲涅爾制版科技在光刻機微結構光學方面實力較強。

賽微電子（300456）：子公司Silex爲全球光刻龍頭公司提供微鏡系統。

茂萊光學（688738）：公司在光刻機領域提供用於勻光、中繼照明模塊的光學器件、投影物鏡，以及用於工件台位移測量系統的棱鏡組件。

騰景科技（688195）：公司合分束器應用於光刻機光學系統，多波段合分束器已進入微電子供應鏈。

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