台積電:A16技術不一定須用艾司摩爾High NA EUV
簡介: (中央社阿姆斯特丹14日綜合外電報導)台積電業務開發資深副總經理張曉強今天表示,台積電的A16技術製程節點不一定需要用到艾司摩爾(ASML)高數值孔徑極紫外光曝光機(High-NA EUV)。 路透...
(中央社阿姆斯特丹14日綜合外電報導)台積電業務開發資深副總經理張曉強今天表示,台積電的A16技術製程節點不一定需要用到艾司摩爾(ASML)高數值孔徑極紫外光曝光機(High-NA EUV)。
路透社報導,張曉強今天在荷蘭阿姆斯特丹的研討會表示,A16廠的設計可能容納High-NA EUV,但這並非確定。
台積電是艾司摩爾一般極紫外光曝光機的最大客戶。
今天稍早,台積電歐洲子公司總經理狄波特(Paul de Bot)也在荷蘭舉行的研討會上透露,台積電設於德國的歐洲首座廠擬於2024年第4季開始動工。
狄波特在研討會上表示,建廠作業正著手進行中。
台積電去年8月同意投資35億歐元(約新台幣1222億元),在德國設立該公司首座歐洲廠。(譯者:劉淑琴/核稿:陳正健)1130514
狄波特
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台積電:A16技術不一定須用艾司摩爾High NA EUV2024/05/14 21:52
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